microworksX射線干涉儀Talint EDU

Talint EDU是X射線Talbot Lau干涉儀的一種巧妙簡化形式，包括所有必要的硬件，以正確設(shè)置和微調(diào)干涉儀，并應(yīng)用相位步進(jìn)程序，以獲得三種成像模式：吸收、相位對(duì)比度和暗場(chǎng)對(duì)比度。

硬件的設(shè)計(jì)使得，在按照我們的說明組裝（預(yù)裝）套件后，莫爾條紋將很容易在您的探測(cè)器上看到。莫爾條紋圖案的進(jìn)一步微調(diào)可以通過使用G1和G2支架中的微米螺釘使光柵繞光軸進(jìn)行角旋轉(zhuǎn)，以直接的方式進(jìn)行。

• 由基板定義，基板是M6的試驗(yàn)板，間距為25mm
• 光柵是使用X射線LIGA技術(shù)制造的，該技術(shù)確保了高精度和高的高寬比（縱橫比）
• 通過定位銷固定；對(duì)稱設(shè)置
• 兩個(gè)光柵都可以通過調(diào)節(jié)測(cè)微螺釘繞光軸旋轉(zhuǎn)
• 包含控制器

產(chǎn)地：德國

長度：60厘米

寬度：15厘米

高度：20厘米

光柵開放區(qū)域

G0：15毫米

G1：70毫米

G2：70毫米

干涉儀的微調(diào)：僅調(diào)整G1和G2繞光軸的旋轉(zhuǎn)角度

樣品放置：簡單的旋轉(zhuǎn)臺(tái)，可在光軸內(nèi)外擺動(dòng)樣品

相位步進(jìn)：閉環(huán)壓電級(jí)。30nm分辨率

邊緣能見度：通常>15%

G0和G2的占空比：0.55

G0和G2的基板：400µm石墨

G1占空比：0.5

G1基板：200µm硅